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高真空多靶磁控溅射镀膜机

  • 发布时间:2025-05-15 14:20:07
    报价:面议
    国家地区:北京 - 大兴
    地址:旧桥路25号院东亚五环国际8号楼502室
    公司:北京维意真空技术应用有限责任公司
    电话:010-67947887
    手机:15611171559
    微信:wayes-vac15611171559
    用户等级: 普通手机验证 会员认证

    MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机

    真空腔室:直径450✕H400mm,1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质,氩弧焊接,前开门结构;

    真空系统:机械泵+分子泵(进口和国产可选);

    极限真空:优于5✕10-5Pa(经烘烤除气后);

    真空抽速:大气~8✕10-4Pa≤30min;

    升降基片台:2~6英寸基片台,靶基距60~120mm连续在线自动可调,旋转0~20r/min可调,可加热至500℃(可选水冷功能),可选配偏压清洗功能;

    磁控靶:直径3英寸2~4只(可升级成直径4英寸靶2~3只),兼容直流和射频,可以溅射磁性材料的靶材;

    溅射电源:直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选;

    质量流量计:2~3路工艺气体,可根据工艺要求增加;

    膜厚监控仪:可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪;

    控制方式:PLC+触摸屏控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现一键抽停真空。

    高真空多靶磁控溅射镀膜机 高真空多靶磁控溅射镀膜机

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