胶体磨设备，高速胶体磨技术，，14000转高速胶体磨，21600转超高速胶体磨，ikn立式高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的xian进水平。
高剪切胶体磨运行原理:
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的最小细度可达0.5um。
IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=3S-1
F=40/0.7/X1000=5S-1
国nei胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在nbsp;S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的zhong要因素，相当于前者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。
间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工
国nei胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转
国nei胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
四、清洗：
IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计无死角，立式结构符合流体原理，清洗更简便
国nei胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，
通常情况，需要拆卸机器进行清洗
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