半导体厂制程废气处理
电子工业是VOCs排放的主要行业之一，电子工业废气VOCs排放种类多，组分复杂。一般来说，废气排放中风量较大，VOCs浓度较低。半导体工艺过程中有机废气具有排放流量大(通常大于11000m3/h)和浓度低(通常小于25ppmv)的特点。排放VOCs废气中还含有酸性气体、碱性气体等。
低温等离子分解废气处理器工作原理：1、利用特制的高能UV紫外线光束照射恶废气体，裂解恶废气体的分子键，降解转变为低分子化学物，如二氧化碳和水等物质。
2、利用高能臭氧分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
半导体制程废气烟气处理3、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC）及各种恶臭味，脱臭效率zui高可达99%以上。
4、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力。