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现在多用液相剥离和氧化还原法来制备，液相剥离法主要是将少量石墨粉分散于溶剂中，形成分散液，通过高速剪切作用力破坏石墨层间的范德华力，从而产生石墨烯片层，现在实验室多在液相剥离过程中，加入分散剂，得稳定的石墨烯悬浮液。
上海依肯发明了一种全新的剥离技术路线，“胶体磨与分散机的二合一组合”实现了石墨烯的低成本规模化制备。相比于传统的氧化-剥离-还原法，该路线操作简便，成本低廉，而且石墨烯结构缺陷少，导电率高，已广泛应用于储能材料，复合材料以及导电剂等领域。石墨烯行业大型知名企业，湖南某石墨，宁波，山东，成都，上海，北京，江阴等多家企业均与我司合作并已为企业设计生产线。
在制备技术层面，氧化还原法与物理剥离法常被用作制备石墨烯粉体，而化学气相沉积法与外延生长法常被用于制备石墨烯薄膜。
上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题，其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨（锥体磨）分散头的组合,可以先将物料（配入溶剂和分散剂）研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。
.CMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺：CMSD研磨分散机适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
研磨分散机腔体工作头分工：
研磨头：用于湿磨，或用于坚硬粒状原材料的研磨，也可用于细乳化和高粘物料处理。
研磨头结构，一次循环即完成细化处理
磨头间隙可调，可灵活控制流量
研磨头的独特设计方式，三级锯齿，每个沟槽的深度不一样，从上到下深度由深变浅，由款变窄，使研磨的物料越磨越细
分散头：用于研磨后再次细化和团聚打开
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