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混悬剂中药物微粒与分散介质之间存在着固液界面，微粒的分散度较大，使混悬微粒具有较高的表面自由能，故处于不稳定状态。尤其是疏水性药物的混悬剂，存在更大的稳定性问题。
为了使微粒沉降速度减小，增加混悬剂的稳定性，可采用以下措施：1/尽可能减小微粒半径，采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是zui有效的一种方法。2/加入高分子助悬剂，既增加了分散介质的粘度，又减少微粒与分散介质之间的密度差，同时助悬剂被吸附于微粒的表面，形成保护膜，增加微粒的亲水性。3/混悬剂中加入低分子助悬剂如糖浆、甘油等，减少微粒与分散介质之间的密度差，同时也增加混悬剂的粘度。这些措施可使混悬微粒沉降速度大为降低，有效地增加了混悬剂的稳定性。但混悬剂中的微粒zui终总是要沉降的，只是大的微粒沉降稍快，细小微粒沉降速度较慢，更细小的微粒由于布朗运动，可长时间混悬在介质中。
ikn药物混悬液胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成，采用了三级错齿磨头定转 子，磨头定转子间隙在0.2-0.7mm之间，间隙可通过调节高速匀浆机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，高速研磨、分散效果会越好。
上海依肯立式分体高速胶体磨的特点:
1、粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。
2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺
3、设备运转速度高达14000转，是国内普通胶体磨的4-5倍，高效细化分散研磨物料
4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热
5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作
6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，极大程度降低了风险
从设备角度分析，影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
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