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石墨烯光催化分散胶体磨

  • 发布时间:2025-01-07 09:04:51
    报价:面议
    国家地区:上海 - 松江
    地址:上海市松江区九亭镇九新公路865号2幢101室-1
    公司:上海依肯机械设备有限公司
    手机:18201891183
    微信:IKN18201891183
    用户等级: 普通手机验证 会员认证

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    目前江阴、北京、上海均在光催化上有着深入的研究并已成功应用于污水处理上。二氧化钛具有光催化降解以及杀菌功能,同时石墨烯的多种优异性能能够将光催化反应发挥的更好。

    上海依肯CMSD2000系列分散胶体磨,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

    .CMSD2000系列分散胶体磨的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

    适用工艺:CMSD分散胶体磨适用于高精细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠

    影响二氧化钛与石墨烯研磨分散混合效果的因素:

    1 磨头的形式(卧式和立式)

    2 磨头的剪切速率

    3 磨头的齿形结构(见磨头结构)

    4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间

    5 循环次数

     

    根据不同企业需要,可以对马达增加适配器以适用生产需要;可以设置防爆电机,满足防爆车间要求;可以更换不同模块,通过均质头的组合运用满足对粒径分布的不同要求;可以结合企业实际生产环境和布局,调整机器位置,如企业入料口较低时,可以将该设备由立式改为卧式,满足企业生产实际条件。

     

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