速立式研磨分散机将IKN高剪切研磨分散机进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的研磨分散机磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的研磨分散机，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成。
石墨烯制备要点：微晶石墨粉末、表面活性剂和溶剂等采用管线式循环研磨混合均匀
超细粉末在进行分散时会遇到的问题，分散不均匀，容易抱团（特别是含有添加剂的情况下更加明显），传统的方式是采用砂磨机或者球磨机进行长时间的反复研磨，这样虽然也可以达到效果，但砂磨机价格昂贵（50L的进口砂磨机价格在数十万以上），研磨时间过长，耗时耗能，占用空间大，维修成本较高。研磨分散机的应用很好的解决了上述问题，研磨时间短，节能减耗，没有易损件，维修成本极低，同时还兼具分散功能；是解决超细粉体分散抱团、不均匀的zui佳选择。
IKN研磨分散机采用的是剪切研磨的方式，作用是对分子间作用力进行一个解聚的过程，从而保证了分子结构的完整性，zui大程度保留了其性能。
1、 可以在较短时间内对颗粒、聚合体或悬浮液等进行粉碎、分散、均匀混合、浮化处理。处理后的产品粒径可达几微米至1微米以下。
2、 两磨体间隙可调（zui小可达1um以下）因此容易控制产品粒度。
3、 机构简单，操作维护方便，占地面积小。
4、 由于固定磨体和高度旋转磨体的间隙极小，因此加工精度高。
速立式研磨分散机 上海依肯销售工程师林万翠
上海依肯CMSD研磨分散机转速相较其它厂家2900转左右高出三倍
CMSD2000/4为立式分体式结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1即正常50HZ频率下转速为9000RPM，外加变频可达140000RPM。CMSD2000/4分散头直径为55mm。
由此可得线速度（V=3.14*D（转子直径）*n/60）
V1= 3.14*0.055* =24M/S
V2=3.14*0.055*=40M/S
CMSD的磨头结构更精密并有独特设计，使之分散作用力更大，效果更好。
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-转子间距(m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 分散头的线速率
– 转子-定子间距
结合1，2中的数据可得：
F1=24/0.7*1000=32857S-1
F2=40/0.7*1000=57142S-1
普通转速为3000RPM的机型大约在14293~21544S-1
设备的选型要点：
1、明确使用设备所需达到的效果和目的
2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）
3、根据物料对设备的搅拌机进行选型
4、再次确定设备的操作参数及结构设计
5、综合考虑设备的成本
速立式研磨分散机 上海依肯销售工程师林万翠