仪器多机尺寸：长610mmX竟420mmX言220mm(注：含腔体总高490mm)
工作腔室尺寸：：金篇腔体：直径260mmX高270mm(外尺寸）
直径210mmX高270mm(内尺寸)
靶材尺寸：室径50mmX罩3mm(图契材材质不司星度有所不司）
靶材料：标配一杂直径50mmX03mm的金起（可渡射弱磁性金属膜）
靶枪冷却方式：水冷
真空系统：抗冲击涡轮分子泵，抽速为300L/s
前级机械泵：抽速为4L,带防返油电磷阀及油污拉滤器
真空测量：采用复合真空计些测真空
极限真空度：5×10Pa(10分钟可到5×10Pa)
电源：官流恒流电源：
翰入克压：220W
输出电压：0-600r可话
输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调
教样台：旋装台（直径尺寸用户可选，不能超过中150mm)
工作气体：Ar笺管性气体（警自备气瓶及减压阀）
气路：谁射喜空度手动道整
沉积速宝：0-200nm
水冷：自循环冷却水机
电源电压：220V50Hz
启动功室：3KW
保修：贰年
仪器多机尺寸：长610mmX竟420mmX言220mm(注：含腔体总高490mm)
工作腔室尺寸：：金篇腔体：直径260mmX高270mm(外尺寸）
直径210mmX高270mm(内尺寸)
靶材尺寸：室径50mmX罩3mm(图契材材质不司星度有所不司）
靶材料：标配一杂直径50mmX03mm的金起（可渡射弱磁性金属膜）
靶枪冷却方式：水冷
真空系统：抗冲击涡轮分子泵，抽速为300L/s
前级机械泵：抽速为4L,带防返油电磷阀及油污拉滤器
真空测量：采用复合真空计些测真空
极限真空度：5×10Pa(10分钟可到5×10Pa)
电源：官流恒流电源：
翰入克压：220W
输出电压：0-600r可话
输出电流（沉积电流）：0-1.6A可调
教样台：旋装台（直径尺寸用户可选，不能超过中150mm)
工作气体：Ar笺管性气体（警自备气瓶及减压阀）
气路：谁射喜空度手动道整
沉积速宝：0-200nm
水冷：自循环冷却水机
电源电压：220V50Hz
启动功室：3KW
保修：贰年
产品说明：
本仪器主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样的仪器。放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足精准定时要求。特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜。具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材，配有高位定性的飞跃真空泵。
特点：
1.同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、银等），以达到更细颗粒的涂层。
2.一键式操作，使用方便。
3.真空保护可避免真空过低造成设备短路。
需要镀膜的样品：
1.电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
2.非导电的样品:
由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。
3.新材料:非导电材料和半导体材料
·创新的低压直流冷态溅射镀膜，避免样品微纳结构热损伤。
·创新的回路控制保证了溅射电流始终固定不变及不受压力变化影响，保证均匀一致的膜厚和很优的镀膜效果。
·溅射电流可预设也可在镀膜过程中实时调节。
·操作容易快捷，自动或手动操作，靶材快速更换。
