1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm 纯度：99.999%
2、真空样品室：直径：160mm，高：110mm
3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm
4．工作真空： 2×10-1—10-1mbar
5.离子电流表：0-50mA
6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。
7.溅射电压：-1600DVC
8.飞越真空泵（VRD-4）：1.1L/S
9.工作室工作媒介气体：空气或氩气等多种气体
10．针阀： 配有进气口，微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。
产品说明：
本仪器主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样的仪器。放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足精准定时要求。特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜。具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材，配有高位定性的飞跃真空泵。
特点：
1.同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、银等），以达到更细颗粒的涂层。
2.一键式操作，使用方便。
3.真空保护可避免真空过低造成设备短路。
需要镀膜的样品：
1.电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
2.非导电的样品:
由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。
3.新材料:非导电材料和半导体材料
·创新的低压直流冷态溅射镀膜，避免样品微纳结构热损伤。
·创新的回路控制保证了溅射电流始终固定不变及不受压力变化影响，保证均匀一致的膜厚和很优的镀膜效果。
·溅射电流可预设也可在镀膜过程中实时调节。
·操作容易快捷，自动或手动操作，靶材快速更换。
