平板状氧化铝WCA20 12um 13um 14um
平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料，采用特殊生产工艺处理，生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状，因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。
平板状氧化铝的氧化铝纯度99%以上，具有耐热，耐酸碱腐蚀，硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同，平板状氧化铝的底面平整，研磨时颗粒贴合工件表面，产生滑动的研磨效果，避免了颗粒尖角对工件表面的划伤，另一方面，平板状氧化铝进行研磨时，研磨压力是均匀分布在颗粒表面，颗粒不易破碎，耐磨性能提高，从而提高了研磨效率和表面光洁度。
对于半导体材料如半导体硅片，平板状氧化铝的应用，可以减少磨削时间，大幅提高研磨效率，减少磨片机的损耗，节省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品质接近国外知名品牌。
显像管玻壳磨削工效提高3-5倍；
合格品率提高10-15%，半导体硅片合格品率达到99%以上；
研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%；
化学成分：（平板状氧化铝 硅片研磨10um 8um氧化铝)
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Al2O3 |
≥99.0% |
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SiO2 |
＜0.2 |
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Fe2O3 |
＜0.1 |
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Na2O |
＜1 |
物理性能：（平板状氧化铝 硅片研磨10um 8um氧化铝
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化学成分 |
α-Al2O3 |
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颜色 |
白色 |
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比重 |
≥3.9g/cm3 |
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莫氏硬度 |
9.0 |
生产规格：（平板状氧化铝 硅片研磨10um 8um氧化铝）
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型号 |
D3(um) |
D50（um） |
D94（um） |
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CA40 |
39-44.6 |
27.7-31.7 |
18-20 |
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CA35 |
35.4-39.8 |
23.8-27.2 |
15-17 |
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CA30 |
28.1-32.3 |
19.2-22.3 |
13.4-15.6 |
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CA25 |
24.4-28.2 |
16.1-18.7 |
9.6-11.2 |
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CA20 |
20.9-24.1 |
13.1-15.3 |
8.2-9.8 |
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CA15 |
14.8-17.2 |
9.4-11 |
5.8-6.8 |
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CA12 |
11.8-13.8 |
7.6-8.8 |
4.5-5.3 |
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CA09 |
8.9-10.5 |
5.9-6.9 |
3.3-3.9 |
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CA05 |
6.6-7.8 |
4.3-5.1 |
2.55-3.05 |
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CA03 |
4.8-5.6 |
2.8-3.4 |
1.5-2.1 |
